サンノゼコンベンションセンターいま、アメリカのシリコンバレーに来ています。アメリカのカリフォルニア州サンノゼは、シリコンバレーと呼ばれているのは、前にも紹介しました。
ここには、毎年2月後半に来ています。マイクロリソグラフィーの進歩に関する学会で、今年で7年連続発表しています。毎年、スキャトロメトリ(光波散乱計測)の発表をして参りました。いろいろな会社の人とも、お知り合いになれ情報交換をしています。
朝早くから夜遅くまで、世界中の人が知恵を出し合っています。もちろん、日本の会社の発表も多く、日本の半導体関連の力はすばらしいものがあります。
スキャトロメトリも、実用化され発表も少し少なくなってきたようです。実用化されると、研究ではなく開発に入り、研究発表を控える会社もあるからです。また、開発会社の淘汰も始まり、この分野でも会社の結合や分離が始まってきていることも原因の一つです。
今年は、22ナノメートルの溝をどう作るかの議論が夜遅くまでなされています。ダブルパターニングの技術で、ムーアの法則での線路幅のトレンドから、一挙に倍の狭さでの溝幅トレンドに移行してきています。
このペースですと、スキャトロメトリも、もう数年で、原子や分子の数を計らざるを得ないような限界にまで来てしまいます。
白崎教授も、今まで多くの企業と研究をして参りました。あらためて、スキャトロメトリの進歩に貢献するよう頑張りたいと思った次第です。
